Istraživači energije fuzije su utvrdili da je moguće kreiranje ekstremno tankih snopova plazme koji bi se mogli koristiti u nanolitografiji za pravljenje budućih računarskih čipova. Trenutno proizvođači čipova koriste ultraljubičastu svetlost za kreiranje finih karakteristika u računarskim čipovima u procesu koji se naziva fotolitografija i zatim hemijski kreiraju šablone. Trenutno naučnici rade na unapređenju ove dve tehnologije za kreiranje plazme. Jedan od pristupa koristi laser dok drugi metod koristi električnu struju. Cilj je da se stvore talasi ekstremno male talasne dužine 13.5nm koji bi pomogli u kreiranju novih tehnologija za izradu još manjih čipova.
